[特邀报告]内置柱状阴极弧离子镀耦合辅助阳极细长管内壁协同沉积技术及CrNx涂层制备研究

内置柱状阴极弧离子镀耦合辅助阳极细长管内壁协同沉积技术及CrNx涂层制备研究
编号:184 稿件编号:184 访问权限:仅限参会人 更新:2025-04-15 09:50:08 浏览:34次 特邀报告

报告开始:2025年05月11日 09:20 (Asia/Shanghai)

报告时间:20min

所在会议:[B1] 薄膜科技论坛一 » [B11] 上午场

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摘要
氮化铬(CrNx)涂层表现出卓越的机械和摩擦学性能,使其成为苛刻工业环境中防护应用的理想选择。然而,由于狭窄的空间和精确相组成控制的困难,在细长管的内表面均匀沉积CrNx涂层仍然具有挑战性。本文提出一种利用辅助阳极和内置圆柱形阴极弧离子镀的新方法,成功地在直径40 mm,长度120 mm的管内表面沉积了CrNx涂层,并深入研究了氮化铬相变对膜层性能影响规律。在双辅助阳极协同下,优化了柱状靶阴极放电,促进了氮气离化。随着氮气流量增加,膜层由混合的CrN+Cr2N相转变为单一的CrN相,之后在更高的氮气流量条件下恢复为混合相。对不同氮气流量下的涂层力学性能和摩擦学性能分析表明:在40 sccm下制备的涂层具有最佳的力学性能,硬度最高(17.4 GPa),而在80 sccm下制备的纯CrN相涂层的磨损率最低(2.95 × 10-6 mm3/(N·m))。研究表明:通过创新地提出辅阳协同沉积的装置和方法,成功实现了在窄靶-管间隙(7.5 mm)内的稳定沉积和精确的相组成控制,解决了细管内壁柱状阴极靶放电稳定性和均匀性挑战,提高了涂层性能,扩大了各种工业应用的保护涂层能力。
 
关键字
内置柱状阴极弧离子镀,管内壁,辅助阳极,CrNx涂层,氮气流量
报告人
巩春志
副研究员 哈尔滨工业大学

稿件作者
巩春志 哈尔滨工业大学
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